Εξάτμιση υπό κενό: Η αρχή είναι να θερμαίνεται το υλικό μεμβράνης με έναν εξατμιστή υπό συνθήκες κενού για να εξατμιστεί ή να εξατμιστεί και στη συνέχεια η ροή των εξατμιζόμενων σωματιδίων εκτοξεύεται απευθείας προς το υπόστρωμα, όπου εναποτίθεται για να σχηματίσει ένα στερεό φιλμ. Η εξάτμιση χωρίζεται επίσης σε εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων, εξάτμιση αντίστασης, εξάτμιση επαγωγής κ.λπ.
Επιμετάλλωση ιόντων: Η επιμετάλλωση ιόντων γενικά αναφέρεται σε μια μέθοδο επίστρωσης που δημιουργεί μεγάλο αριθμό ιόντων κατά τη διαδικασία επικάλυψης. Κατά τη διαδικασία σχηματισμού μεμβράνης, το υπόστρωμα βομβαρδίζεται συνεχώς με σωματίδια υψηλής{1} ενέργειας, με αποτέλεσμα ένα πολύ ισχυρό στρώμα φιλμ με εξαιρετική αντοχή και πρόσφυση. Όταν η επίστρωση ιόντων χρησιμοποιείται για τη δημιουργία μεμβρανών υψηλής ακρίβειας-, τα μεγάλα σωματίδια ιόντων μπορούν να φιλτραριστούν, με αποτέλεσμα ένα εξαιρετικά δομημένο και πυκνό φιλμ.
Οι πιο κοινές τεχνολογίες επίστρωσης εξοπλισμού επίστρωσης κενού στην καθημερινή ζωή είναι αυτές οι τρεις. Το συγκεκριμένο που θα επιλέξετε εξαρτάται από το στρώμα μεμβράνης που θα επικαλυφθεί και το τεμάχιο εργασίας που θα επικαλυφθεί.
