Λειτουργική αρχή:

Η μηχανή επικάλυψης στο πλάσμα (συνήθως αναφέρεται στην τεχνολογία επικάλυψης ιόντων στην εναπόθεση φυσικού ατμού, όπως η επικάλυψη ιόντων με μαγνητρόνη, επικάλυψη ιόντων τόξου κ.λπ.) είναι μια προηγμένη τεχνολογία επεξεργασίας επιφάνειας. Το βασικό χαρακτηριστικό του είναι να χρησιμοποιεί την εκκένωση αερίου για να δημιουργήσει πλάσμα σε περιβάλλον κενού για να ιονίζει ή να εξατμίζει το υλικό που πρόκειται να επαληθεύσει (υλικό στόχο) και να το επιταχύνει για να βομβαρδίσει την επιφάνεια του υποστρώματος (τεμάχιο εργασίας) κάτω από τη δράση του ηλεκτρικού πεδίου για να σχηματίσει μια ισχυρή, πυκνή και ομοιόμορφη λεπτή μεμβράνη.

Εφαρμογές:

1. Βιομηχανία εργαλείων (εργαλεία, καλούπια): εργαλεία κοπής, σχηματίζοντας καλούπια.

2. Διακοσμητική επίστρωση: ρολόγια, κοσμήματα, υλικό μπάνιου, πλαίσια γυαλιών, θήκες κινητού τηλεφώνου, αξεσουάρ, περιπτώσεις ηλεκτρονικών προϊόντων, εσωτερικούς χώρους αυτοκινήτων, εξωτερικά μέρη.

3. Βιομηχανία αυτοκινήτων: Δαχτυλίδια εμβόλου (επιμεταλλωμένα με CRN, DLC, κλπ. Για να βελτιωθεί η αντίσταση στη φθορά), βαλβίδες, σφαίρες, γρανάζια, δακτυλίοι συγχρονισμού, ρουλεμάν, ανακλαστήρες προβολέων (επιμεταλλωμένα με υψηλή ανακλαστικότητα μεμβράνη αλουμινίου), συστατικά αισθητήρων κ.λπ.

4. Οπτικό πεδίο: φακοί γυαλιών, φακοί κάμερας, φίλτρα.

5. ΙΑΤΡΙΚΗ ΚΑΙ ΒΙΟΛΟΓΙΑ: Χειρουργικά όργανα, ορθοπεδική, οδοντικά εμφυτεύματα

Χαρακτηριστικά:

Ισχυρή συγκόλληση μεμβράνης ταινιών:

Οι επιδράσεις καθαρισμού και ψεκασμού του βομβαρδισμού ιόντων, καθώς και η υψηλή ενέργεια σωματιδίων, κάνουν το στρώμα φιλμ και τον δεσμό του υποστρώματος πολύ σταθερά.

Πυκνή και ομοιόμορφη ταινία:

Η εναπόθεση σωματιδίων υψηλής ενέργειας ευνοεί τον σχηματισμό λεπτών μεμβρανών με πυκνή δομή και λίγα ελαττώματα.

Καλή απόδοση επικάλυψης:

Το περιβάλλον του πλάσματος καθιστά την κατεύθυνση της κίνησης των σωματιδίων πιο τυχαία και η κάλυψη της επίστρωσης σύνθετων τεμαχίων (όπως εργαλεία, καλούπια και διακοσμητικά μέρη) είναι καλή.

Κατάλληλο για σκληρές επικαλύψεις:

Είναι ιδιαίτερα καλό στην κατάθεση διαφόρων μεταλλικών νιτρίδων, καρβίδων, οξειδίων και άλλων υπερ-σκληρών, ανθεκτικών στη φθορά και ανθεκτικών σε διάβρωση επικαλύψεις (όπως κασσίτερο, CRN, Tialn, DLC κ.λπ.) και χρησιμοποιείται ευρέως σε εργαλεία, καλούπια, ανθεκτικά σε φθορά εξαρτήματα, διακοσμητικά επένδυση και άλλα πεδία.

Σχετικά χαμηλή θερμοκρασία διεργασίας:

Πολλές διαδικασίες μπορούν να πραγματοποιηθούν σε 200-500 βαθμούς, μειώνοντας τον κίνδυνο θερμικής παραμόρφωσης του βασικού υλικού (ειδικά εξαρτήματα ακριβείας, χάλυβα εργαλείων)

Προστασία του περιβάλλοντος:

Σε σύγκριση με την παραδοσιακή ηλεκτρολυτική (όπως το hexavalent chromium electroplating), είναι μια πιο φιλική προς το περιβάλλον τεχνολογία επεξεργασίας επιφανειών (χωρίς προβλήματα ρύπανσης από λύματα και αποβλήτων).

Ισχυρή λειτουργικότητα:

Μπορεί να παράγει μια ποικιλία λειτουργικών μεμβρανών υψηλής απόδοσης όπως μέταλλα, κράματα, κεραμικά, ενώσεις, πολυστρωματικά και νανοσύνθετα

Προσδιορισμός:

Μηχάνημα επικάλυψης πλάσματος
Μοντέλο	HL-600	HL-800	HL-1000	HL-1200	HL-1400	HL-1500	HL-1600
Μέγεθος θαλάμου	Φ600 × 800mm	Φ800 × 1000mm	Φ1000 × 1200mm	Φ1200 × 1400mm	Φ1400 × 1600mm	Φ1500 × 1500mm	Φ1600 × 1800mm
Μονάδα κενού	Μονάδα αντλίας διάχυσης KT400	Μονάδα αντλίας διάχυσης KT500	Μονάδα αντλίας διάχυσης KT500	Μονάδα αντλίας διάχυσης KT630	Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630	Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630	Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630
Σύστημα επικάλυψης	Αφιερωμένη τροφοδοσία ρεύματος πολλαπλών τόξων + πολλαπλών λειτουργιών Twin Magnetic Ring Target + Cylindrical Arc Target (προαιρετικό)
Βοηθητικό σύστημα επικάλυψης	Πηγή υποβοηθούμενης από ιόν χαμηλής θερμοκρασίας (δεν απαιτείται σύστημα θέρμανσης εκτός από την επιμετάλλωση εργαλείων)
Σύστημα πληθωρισμού	Μετρητής ροής μάζας
Μέθοδος ελέγχου	Χειροκίνητο ή πλήρως αυτόματο
Ρυθμός άντλησης	5 × 10-3pa ﹤ 15 λεπτά
Τελικό κενό	5x10-4pa
Παρατήρηση	Οι παραπάνω παράμετροι εξοπλισμού είναι μόνο για αναφορά και σχεδιάζονται και προσαρμόστηκαν σύμφωνα με τις πραγματικές απαιτήσεις διαδικασίας των πελατών.