Λειτουργική αρχή:
Μέσα σε έναν θάλαμο κενού, χρησιμοποιείται ένα μαγνητικό πεδίο για τον περιορισμό μιας εκκένωσης λάμψης, προκαλώντας ιόντα αργού να βομβαρδίζουν το υλικό στόχο σε υψηλές ταχύτητες, τα άτομα στόχου εκτοξεύονται και εναποτίθενται στην επιφάνεια του τεμαχίου εργασίας για να σχηματίσουν ένα πυκνό λεπτό φιλμ{0}}μια διαδικασία που ταξινομείται ως Φυσική Εναπόθεση ατμών (PVD).
Χαρακτηριστικά Εξοπλισμού
Συμβατό με διάφορους τύπους στόχων sputtering
Υποστηρίζει στόχους διασκορπισμού μαγνητρόν DC, MF και RF, φιλοξενεί κεραμικούς στόχους τόσο μετάλλων όσο και οξειδίων, επιτρέποντας την εναπόθεση τόσο μεταλλικών όσο και μονωτικών διηλεκτρικών φιλμ.
Περιστροφή Υποστρώματος και Μηχανισμός Περιστροφής
Η σχάρα του τεμαχίου κατεργασίας χρησιμοποιεί ένα σύστημα πλανητικής περιστροφής, επιτρέποντας στα τεμάχια εργασίας μέσα στον κλίβανο να περιστρέφονται και να περιστρέφονται ταυτόχρονα, αυτό εξασφαλίζει εξαιρετική ομοιομορφία πάχους μεμβράνης σε όλο το φορτίο του κλιβάνου και ελαχιστοποιεί τις χρωματικές διαφορές.
Σύστημα προεπεξεργασίας ιόντων-χαμηλής θερμοκρασίας-
Εξοπλισμένο με μια ενσωματωμένη-πηγή καθαρισμού ιόντων, το σύστημα βομβαρδίζει την επιφάνεια του τεμαχίου εργασίας με πλάσμα πριν από την επίστρωση για να αφαιρέσει ρύπους από λάδι και στρώματα οξειδίου. Επιτρέπει την εναπόθεση μεμβράνης χαμηλής-θερμοκρασίας με ελάχιστη θέρμανση υποστρώματος, καθιστώντας το κατάλληλο για επεξεργασία ευαίσθητων πλαστικών σε θερμότητα-όπως ABS και PC χωρίς να προκαλείται κάψιμο ή παραμόρφωση.
Ανεξάρτητη διαμόρφωση μονάδας κενού
Συνδυασμός στροβιλομοριακής αντλίας, αντλίας Roots και περιστροφικής αντλίας πτερυγίων, εξασφαλίζοντας μια σταθερή καμπύλη άντλησης.
Πλήρως αυτόματο σύστημα βιομηχανικού ελέγχου PLC
Αυτοματοποίηση διαδικασίας, συνταγές διαδικασίας μπορούν να αποθηκευτούν και να ανακληθούν με ένα κλικ.
Έλεγχος ροής αερίου ακριβείας
Χρησιμοποιεί πολλαπλούς ελεγκτές ροής μάζας (MFCs) για να ρυθμίζει με ακρίβεια τα αντιδραστικά αέρια όπως το αργό, το οξυγόνο και το άζωτο, καθιστώντας το κατάλληλο για την αντιδραστική εναπόθεση σύνθετων μεμβρανών οξειδίου και νιτριδίου.
Προστασία κλειδώματος ασφαλείας
Περιλαμβάνει κλειδώματα για την πόρτα του θαλάμου και το σύστημα κενού, καθώς και προστασίες από υπερφόρτωση, έλλειψη νερού και διακοπή ρεύματος, αυτόματη απενεργοποίηση κατά τον εντοπισμό ανωμαλιών για την προστασία της πηγής στόχου και του συστήματος κενού.
Εφαρμογές:
Διακοσμητική Επικάλυψη
Θήκες ρολογιών, είδη μπάνιου, κεφαλές μπαστούνι του γκολφ, χειροτεχνήματα, παιχνίδια, ανακλαστήρες προβολέων αυτοκινήτου και περιβλήματα και κουμπιά κινητών τηλεφώνων ή οικιακών συσκευών. Με δυνατότητα παραγωγής απομίμησης χρυσού, μαύρου μεταλλικού, εξαιρετικά-μαύρου και έγχρωμων διακοσμητικών επιστρώσεων, χρησιμεύει ως μια-φιλική προς το περιβάλλον,{3}}ελεύθερη εναλλακτική λύση έναντι της παραδοσιακής επιμετάλλωσης με βάση το νερό-.
Συμβατά Υποστρώματα: Πλαστικό ABS, γυαλί, κεραμικά, πλακάκια και διάφορα μέταλλα.
Λειτουργικές ταινίες
Καλούπι και Εργαλεία: Φοράτε-ανθεκτικές προστατευτικές επιστρώσεις για εργαλεία κοπής και καλούπια/μήτρες














Φόντα
Το πάχος του φιλμ είναι ελεγχόμενο και επαναλαμβανόμενο.
Μπορεί να εναποθέσει αξιόπιστα ένα φιλμ προκαθορισμένου πάχους και η επίστρωση με ψεκασμό μπορεί να αποκτήσει ομοιόμορφο πάχος φιλμ σε μεγάλη επιφάνεια.
Η μεμβράνη έχει ισχυρή πρόσφυση στο υπόστρωμα.
Μερικά άτομα υψηλής-ενέργειας διασκορπισμένα παράγουν διαφορετικούς βαθμούς έγχυσης, σχηματίζοντας ένα ψευδο-στρώμα διάχυσης στο υπόστρωμα όπου τα άτομα με διάχυση και τα άτομα του υποστρώματος συντήκονται μεταξύ τους.
Παρασκευή λεπτών μεμβρανών από ειδικά υλικά.
Μικτές μεμβράνες και σύνθετες μεμβράνες μπορούν να παρασκευαστούν με ψεκασμό διαφορετικών υλικών ταυτόχρονα. Μπορούν επίσης να διασκορπιστούν μεμβράνες απομίμησης χρυσού TiN.
Η μεμβράνη έχει υψηλή καθαρότητα και η διασκορπισμένη μεμβράνη δεν θα αναμιχθεί με τα συστατικά του θερμαντικού υλικού του χωνευτηρίου.
Εξοπλισμένο με βοηθητική πηγή ιόντων χαμηλής-θερμοκρασίας, μπορεί να σχηματίσει φιλμ με ψυχρή επιμετάλλωση σε θερμοκρασία δωματίου χωρίς θέρμανση, εξοικονομώντας ενέργεια και ηλεκτρισμό και βελτιώνοντας την παραγωγική ικανότητα.
Προσδιορισμός:
|
Μηχάνημα επικάλυψης Magnetron sputtering |
|||||||
|
Μοντέλο |
CJ-600 |
CJ-800 |
CJ-1000 |
CJ-1200 |
CJ-1400 |
CJ-1500 |
CJ-1600 |
|
Μέγεθος θαλάμου |
Φ600×800mm |
Φ800×1000mm |
Φ1000×1200mm |
Φ1200×1400mm |
Φ1400×1600mm |
Φ1500×1500mm |
Φ1600×1800mm |
|
Μονάδα κενού |
KT400 Μονάδα αντλίας διάχυσης |
KT500 Μονάδα αντλίας διάχυσης |
KT800 Μονάδα αντλίας διάχυσης |
KT630 Μονάδα αντλίας διάχυσης |
Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630 |
Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630 |
Διπλή μονάδα αντλίας διάχυσης KT630 |
|
Σύστημα επίστρωσης |
Τροφοδοτικό DC ή μεσαίας συχνότητας, ειδική τροφοδοσία βοηθητικού ιόντος επίστρωσης |
||||||
|
Σύστημα πληθωρισμού |
Μετρητής ροής μάζας |
||||||
|
Μέθοδος ελέγχου |
Χειροκίνητη ή πλήρως αυτόματη |
||||||
|
Απόλυτο κενό |
5X10-3Pa |
||||||
|
Παρατήρηση |
Οι παραπάνω παράμετροι εξοπλισμού είναι μόνο για αναφορά και έχουν σχεδιαστεί και προσαρμοστεί σύμφωνα με τις πραγματικές απαιτήσεις διαδικασίας των πελατών. |
||||||
Δημοφιλείς Ετικέτες: Μηχάνημα επίστρωσης με ψεκασμό magnetron, Κίνα κατασκευαστές μηχανών επίστρωσης με ψεκασμούς magnetron, προμηθευτές, εργοστάσιο
